一、pH偏低处理
1. 原因
原水中溶解CO₂较多，RO脱盐后HCO₃⁻减少，形成碳酸导致产水偏酸；水中酸性阴离子残留。
2. 处理措施
在RO产水或EDI进水管路投加NaOH溶液，在线调节pH至7.0～8.5。
增设脱气膜/脱气塔，去除水中溶解CO₂，提升并稳定pH。
优化EDI运行工况，保证树脂充分再生，稳定出水pH。
二、二氧化硅超标处理
1. 原因
原水活性硅、胶体硅含量高；RO回收率过高导致浓水硅结垢倾向大；进水pH偏低，硅去除效率下降；EDI/混床失效或再生不彻底。
2. 处理措施
预处理：采用混凝、澄清、超滤去除胶体硅；高硅水源可采用镁剂沉淀除硅。
RO系统：控制合理回收率，投加硅阻垢剂；适当提高RO进水pH，提高硅的解离度与去除率。
深度处理：保证EDI进水pH在8.5～9.5以提升除硅效果；失效阴床/混床及时再生或更换。
膜清洗：确认硅结垢时，采用专用碱性/含氟清洗液对RO膜进行化学清洗。
三、综合控制标准
• 出水pH控制在6.0～8.0（按工艺等级执行）。
• 二氧化硅控制：RO产水＜0.1mg/L，精处理后≤10μg/L。
• 稳定运行：在线监测pH、SiO₂、电导率，及时调整加药量与系统回收率。
扫一扫加微信